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本发明提供一种用于阻挡层抛光的酸性抛光液，含有(a)研磨颗粒(b)端基含氨基的硅烷偶联剂(c)唑类化合物(d)有机膦酸络合剂(e)聚乙烯亚胺型表面活性剂(f)氧化剂(g)水。该抛光液可以有效降低蝶形缺陷和局部侵蚀，同时具有长期稳定性。...
该专利属于安集微电子科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）有限公司授权不得商用。

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