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本发明提供一种用于阻挡层抛光的碱性抛光液，含有:(a)研磨颗粒(b)唑类化合物(c)磷酸(d)氯化铵(e)端基有氨基的聚乙二醇、聚丙二醇、乙二醇和丙二醇共聚物的Low‑K材料抑制剂(f)氧化剂(g)水。该抛光液通过加入端基含氨基的聚乙二醇、...
该专利属于安集微电子科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）有限公司授权不得商用。

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