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文档序号:15780307
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一种从制品除去涂层的方法包括将制品加热到处理温度。所述制品包括与第二材料接触的第一材料,所述第一材料包含硅,所述第二材料包含含硅的氧化物。加热在具有一定氧分压的环境中进行,所述氧分压小于在处理温度下在第一材料和第二材料之间化学平衡的平衡氧分...
该专利属于通用电气公司所有,仅供学习研究参考,未经过通用电气公司授权不得商用。
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