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本发明提供一种等离子体处理装置及方法，用以改善等离子体分布的均匀性，其中，所述装置包括：反应腔；位于反应腔内的承片台，用于放置待处理基底；呈同心分布的若干电感耦合线圈，用于将反应腔内的气体等离子体化，包括第一、第二电感耦合线圈；射频功率源；...
该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

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