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本实用新型公开了一种持续稳定的单晶硅片清洗装置，包括第一水槽、第二水槽、第三水槽、第四水槽、第五水槽、第六水槽、第七水槽、第八水槽，在每个水槽内设有加热器，每个加热器与加热器温控板单独连接，所述第三水槽和第四水槽内部均设有水冷块，在第三水槽...
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