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一种具有N型浮空埋层的RESURF HEMT器件制造技术
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下载一种具有N型浮空埋层的RESURF HEMT器件的技术资料
文档序号:15765722
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本发明属于半导体技术领域,涉及一种具有N型浮空埋层RESURF HEMT器件。本发明的技术方案,通过引入P型缓冲层及N型浮空埋层,P型缓冲层与沟道处2DEG形成RESURF效应,调制器件横向电场;N型浮空埋层与P型缓冲层形成PN结,阻断状态...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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