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本发明提供一种用于透射电子显微镜俯视观察的芯片样品制备方法，包括：提供待测样品，在待测样品的顶面沉积第一保护层，使第一保护层覆盖以与待分析目标相垂直对应的待测样品的顶面部分为中心扩展的矩形区域；在第一保护层的四个顶角以及四条边缘的中心位置沉...该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。