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一种可调控垂直交换耦合场大小的复合磁性多层膜结构制造技术
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下载一种可调控垂直交换耦合场大小的复合磁性多层膜结构的技术资料
文档序号:15726145
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本发明属于磁存储技术领域,具体为一种可调控垂直交换耦合场大小的复合磁性多层膜结构。垂直复合薄膜结构为:玻璃衬底/Ta(5) /Cu(3) /[Co(0.28)/Ni(0.58)]...
该专利属于复旦大学所有,仅供学习研究参考,未经过复旦大学授权不得商用。
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