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本发明公开了一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是步骤为：首先用含有无机粒子的高分子涂覆液在模具上制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层，然后用硅胶在具有纳米凹凸结构的减反射涂层上制模，最后待硅胶固化后脱模，即制得能连续制备塑...
该专利属于西南科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过西南科技大学授权不得商用。

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