温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种金属结构光刻蚀刻方法以及金属结构光刻蚀刻结构。根据本发明的金属结构光刻蚀刻方法包括：第一步骤：形成金属阻挡层；第二步骤：执行第一金属层的沉积；第三步骤：在第一金属层上依次形成抗反射层和抗反射层光刻胶；第四步骤：在抗反射层光刻...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。