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本实用新型提供一种整合原子层沉积以及反应性离子蚀刻的系统，其包含一反应装置以及一样品移动装置，反应装置包含一第一反应腔体以及与所述第一反应腔体相互连接的一第二反应腔体，而样品移动装置设置在所述反应装置内，其中一样品通过所述样品移动装置的控制...
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