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通过引入具有酚类化合物的清洁剂至聚合反应器系统，并使之与其上具有熔体聚合反应之残余反应组分的熔体聚合反应器系统的表面接触，可以清洁其上具有熔体聚合反应之残余反应组分的熔体聚合反应器系统的表面。熔体聚合反应之残余反应组分包括聚碳酸酯低聚物或聚...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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