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一种沟槽栅金属氧化物场效应晶体管及其制造方法技术
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文档序号:15693063
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本发明的一种沟槽栅金属氧化物场效应晶体管,包括:正面、背面金属电极,N型单晶衬底,N型外延层,第一P型掺杂区,在N型外延层和第一P型掺杂区的中央部分设有垂直沟槽,在沟槽中的栅极侧壁与第一P型掺杂区之间为第一介质层,栅极底部与外延层之间为第二...
该专利属于深圳基本半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳基本半导体有限公司授权不得商用。
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