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高击穿电压的氮化镓高电子迁移率晶体管及其形成方法技术
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下载高击穿电压的氮化镓高电子迁移率晶体管及其形成方法的技术资料
文档序号:15693036
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一种具有高击穿电压的氮化镓高电子迁移率晶体管及其形成方法,所述高电子迁移率晶体管包括:衬底;位于所述衬底上的氮化镓沟道层;位于所述氮化镓沟道层上的第一势垒层;位于所述第一势垒层上的栅极、源极和漏极,所述源极和漏极分别位于所述栅极的两侧;位于...
该专利属于上海新傲科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海新傲科技股份有限公司授权不得商用。
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