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本发明公开了一种阵列基板及其制造方法，属于半导体技术领域。该制造方法包括提供一衬底基板；在衬底基板上制作栅极金属层，栅极金属层包括间隔设置的栅线和公共电极信号线；在栅极金属层上形成栅极绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层和保护图形；在钝化层和栅...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。