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本发明公开了一种可连续调节电离室管道位置的装置及方法，目的在于解决现有电离室管道位置调节装置对电离室管道的位置调整非常困难，且调整是不连续的问题。本发明以现有电离室管道位置调节装置为基础，对装置的整体机构进行了全新的设计和改进，增加了转动调...
该专利属于中国工程物理研究院核物理与化学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院核物理与化学研究所授权不得商用。

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