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本发明公开一种离子注入或注入且沉积系统，包括：注入或注入且沉积工作室，其内部在处理工件时处于真空状态；阴极靶台，将待处理的工件支撑于所述注入或注入且沉积工作室内；粒子馈送源，用于给所述注入或注入且沉积工作室供应粒子；粒子馈送管道，与粒子馈送...
该专利属于北京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京航空航天大学授权不得商用。

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