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本发明公开了一种金属纳米线的清洗方法，包括涂层工序、清洗工序、分散工序和清除工序，其特征在于所述金属纳米线的清洗方法在金属纳米线表面形成一层保护层，该保护层有效地防止了后续的抽滤洗涤时金属纳米线的沉聚，然后抽滤洗涤去除溶剂、有机高分子及无机...
该专利属于济宁利特纳米技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过济宁利特纳米技术有限责任公司授权不得商用。

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