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本实用新型公开了一种能够控制双金属片输送间距的上料装置，涉及温控电子元件制造技术领域。本实用新型包括振动盘自动上料机和用以将间隔较近的双金属片从振动盘自动上料机的上料路径上剔除的拨料机构，所述的拨料机构设于振动盘自动上料机的上料路径的终点附...
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