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本发明公开了一种针对3D光学玻璃、蓝宝石半导体的高精清洗工艺，包括步骤：真空超声波皂化清洗、真空碳氢切水、真空超声波碳氢清洗、蒸汽浴洗与真空干燥、等离子清洗，其中，碳氢清洗剂均为C...
该专利属于深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司授权不得商用。

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