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本发明公开了种用于CVD固态源的挥发装置，包括上盖组件与及不锈钢釜体(1)构成的密闭反应釜；所述的上盖组件包括上盖法兰(1)，上盖法兰(2)上设有与反应釜内连通的进气管(3)与出气管(4)；进气管(3)伸入反应釜内部；所述的上盖法兰(2)上...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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