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本发明公开了一种有源层的制作方法、氧化物薄膜晶体管及其制作方法，该有源层的制作方法，包括以下步骤：在基板上沉积氧化物薄膜，并对所述氧化物薄膜进行图形化处理获得氧化物层；在基板上制作覆盖于所述氧化物层上的光刻胶层，并对所述光刻胶层进行图形化处...
该专利属于佛山科学技术学院所有，仅供学习研究参考，未经过佛山科学技术学院授权不得商用。

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