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本发明提供一种低关断损耗的SOI‑LIGBT器件结构，包括从下至上依次设置的P型衬底、埋氧层二氧化硅、N型漂移区、P型阱区、N‑buffer层、氧化层；P型阱区内部上方设有N型源端以及P型接触区；N‑buffer层内部上方设有N型阳极区；在...该专利属于电子科技大学;电子科技大学广东电子信息工程研究院所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学;电子科技大学广东电子信息工程研究院授权不得商用。