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本发明公开了一种焦面检测装置、焦面标定方法与硅片曝光方法，该装置包括光源单元，用于对掩模板进行照射产生成像光束；成像单元，用于将掩模板上的调焦图形成像在调焦图像传感器上；调焦驱动单元，用于垂向调节投影物镜或者运动台单元以完成调焦；运动台单元...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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