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一种MEMS基片的加工方法，对基片进行腐蚀前，通过在基片的侧面和背面分别形成第二掩膜层和第三掩膜层，由于第二掩膜层对基片的边缘侧面进行有效保护，可以有效避免在对基片进行腐蚀的同时将基片的边缘侧面腐蚀从而导致基片边缘出现缺角，在随后的工艺中基...
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