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原子层沉积装置及使用装置处理基板的方法制造方法及图纸
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文档序号:15528210
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一种原子层沉积装置,具有第一系列的高压气体注入开口与第一系列的排出开口,两者被定位,使得它们一起产生每个冲净气体区域内的第一高压/吸入区域,其中每个第一高压/吸入区域大体上延伸覆盖加工隧道的整个宽度,且其中,被连接到第二冲净气体源的气体注入...
该专利属于ASM国际股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASM国际股份有限公司授权不得商用。
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