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本发明涉及一种半导体制作技术领域，尤其涉及一种连续型非晶硅薄膜处理系统，包括：激光模块，第二光学镜片，第一光学镜片，激光模块发射激光光束；第二光学镜片，设置于非晶硅薄膜的上方，第一光学镜片，临近第二光学镜片设置于非晶硅薄膜的上方；通过第二光...
该专利属于上海和辉光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海和辉光电有限公司授权不得商用。

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