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本发明公开了一种用于双面研磨抛光设备上的单面抛光系统，包括设置在双面研磨抛光设备上的上抛光盘和下抛光盘之间的游星轮，所述游星轮内设有通孔，该通孔中设有填充物，待抛光工件放置于游星轮的通孔内且该待抛光工件一端面与填充物接触，该填充物可设置在游...
该专利属于东莞市中镓半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东莞市中镓半导体科技有限公司授权不得商用。

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