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一种用于多层全息天线的GaAs‑Ge‑GaAs异质结构的pin二极管制备方法。该制备方法包括:(a)选取GeOI衬底;(b)刻蚀所述GeOI衬底的顶层Ge层以在所述顶层Ge层内形成第一沟槽和第二沟槽;(c)在所述第一沟槽和所述第二沟槽内淀积...该专利属于西安科锐盛创新科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西安科锐盛创新科技有限公司授权不得商用。
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