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本发明涉及一种金属化薄膜及其制备方法和电容器,所述金属化薄膜包括基底薄膜,在所述基底薄膜的一侧表面具有金属蒸镀膜部和空白留边部,所述金属蒸镀膜部表面覆盖有一层保护膜层,所述保护膜层表面具有第一等离子处理层;在所述基底薄膜的另一侧具有第二等离...该专利属于东丽薄膜加工(中山)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东丽薄膜加工(中山)有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种金属化薄膜及其制备方法和电容器,所述金属化薄膜包括基底薄膜,在所述基底薄膜的一侧表面具有金属蒸镀膜部和空白留边部,所述金属蒸镀膜部表面覆盖有一层保护膜层,所述保护膜层表面具有第一等离子处理层;在所述基底薄膜的另一侧具有第二等离...