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本发明提供一种薄膜晶体管及其制备方法、显示基板及其制备方法，属于显示技术领域，其可解决现有的薄膜晶体管的制备方法中，源极和漏极中的源、漏极所采用的金属材料被形成欧姆接触层的反应气体腐蚀而导致显示不良的问题。本发明的薄膜晶体管的制备方法，包括...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。