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本发明公开了一种超导体-绝缘体-金属异质薄膜材料为层状结构，包括金属铪基底层、五碲化铪膜结构层和三碲化铪膜结构层，该层状结构在二维平面内扩展。制备方法：在真空环境下，将适量高纯度碲蒸发沉积到过渡金属铪基底表面；进行退火处理，以使沉积的碲原子...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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