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本发明公开了一种圆柱面磁控溅射装置。它包括同轴心置于管状衬底(5)中的圆柱阴极靶(4)，连通管状衬底(5)的进气管(8)和排气管(6)，以及与管状衬底(5)和圆柱阴极靶(4)电连接的等离子体激发电源(11)，特别是管状衬底(5)经绝缘座(9...
该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。

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