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本发明公开了一种制备硅微纳分级结构的新方法，包括以下步骤：S1、将清洗干净的硅片放入处于加热和搅拌状态的氢氧化钾和异丙醇混合溶液中进行刻蚀，获得尺寸和分布均匀的金字塔型硅微结构阵列；S2、在步骤S1获得的金字塔型硅微结构阵列表面集成粘附层/...
该专利属于西南交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西南交通大学授权不得商用。

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