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本实用新型提供一种背面具有凹陷/凸起的基座和用于外延沉积的反应器，其中，用于外延沉积反应器的基座(200)，包括至少一个非中心凹陷(233A)和/或至少一个非中心凸起，以确保基座(200)的角度定位和旋转运动从一个旋转轴(300)传导到基座...
该专利属于LPE公司所有，仅供学习研究参考，未经过LPE公司授权不得商用。

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