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本申请提供了一种黑膜的制作方法、黑膜以及发光器件。该制作方法包括：步骤S1，采用黑色光刻胶制作第一个黑膜层；步骤S2，在第一个黑膜层的一个表面上依次制作第二个至第N个黑膜层，且使得第一个黑膜层的覆盖区域与设置在第一个黑膜层上的各个黑膜层的覆...
该专利属于纳晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳晶科技股份有限公司授权不得商用。

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