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本发明公开了一种真空灭弧室触头结构，包括静触头和动触头，所述动触头相对所述静触头一侧形成有球形凸面，所述静触头相对所述动触头一侧形成一与所述球形凸面相配合的球形凹面；其中，所述球形凸面上设置有多个外凹槽，所述球形凹面上设置有多个内凹槽。本发...
该专利属于湖北大禹汉光真空电器有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北大禹汉光真空电器有限公司授权不得商用。

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