温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及式ＲＳｉＣｌ－［２］－ＮＲ＇－ＳｉＣｌ－［２］Ｒ（其中Ｒ为Ｃ－［１－４］烷基、乙烯基或苯基，Ｒ＇为Ｃ－［１－４］烷基）所示Ｓｉ，Ｓｉ＇－二有机基－Ｎ－烷基四氯二硅氮烷的制备方法，并涉及这些化合物自身（其中Ｒ与Ｒ＇不得同时为甲基）。...
该专利属于赫彻斯特股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过赫彻斯特股份公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。