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光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法，实现具备CD精度更高的转印用图案的光掩模。具有以下工序：准备在透明基板上形成了遮光膜的光掩模坯体；对遮光膜进行构图来形成遮光部；在进行了构图后的遮光膜上形成半透光膜；以及通过对半透光膜进行构图...
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