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本发明涉及一种新型的荧光多面低聚倍半硅氧烷/聚甲基丙烯酸甲酯（POSS/PMMA）的制备方法。本发明首先通过分子设计，利用Si‑H键与末端炔的加成反应将具有高荧光量子产率的长共轭芴类衍生物EMOF引入POSS，制备以POSS为核、荧光生色团...
该专利属于上海航天设备制造总厂所有，仅供学习研究参考，未经过上海航天设备制造总厂授权不得商用。

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