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本发明提供了一种离子源及其维护方法,离子源包括进样管、泵;空腔,所述空腔具有样品进口、离子出口和气体出口,所述进样管安装在所述样品进口处;推斥极,所述推斥极为底部具有适于样品进入的通孔的筒形电极;吸引极,所述吸引极为底部具有适于样品进入的通...该专利属于聚光科技(杭州)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过聚光科技(杭州)股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种离子源及其维护方法,离子源包括进样管、泵;空腔,所述空腔具有样品进口、离子出口和气体出口,所述进样管安装在所述样品进口处;推斥极,所述推斥极为底部具有适于样品进入的通孔的筒形电极;吸引极,所述吸引极为底部具有适于样品进入的通...