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平面抛光设备制造技术
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文档序号:15174686
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本实用新型公开了一种平面抛光设备,其特征在于,它包括机架及其上设置的粗抛装置、精抛装置和输送装置,粗抛装置、精抛装置分别设置在输送装置的上方,粗抛装置包括设置在机架上的粗抛升降导向机构,升降架包括活动设置在粗抛升降导向机构上的升降架、驱动升...
该专利属于罗迎红所有,仅供学习研究参考,未经过罗迎红授权不得商用。
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