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本实用新型公开了一种用于真空对盒系统的清洁装置，所述真空对盒系统包括吸附板和间隔设置在所述吸附板上的多个吸附件，其中，所述清洁装置包括安装件和多个间隔设置在所述安装件上的清洁件，相邻两个所述清洁件之间的间隔与相邻两个所述吸附件之间的间隔匹配...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司授权不得商用。