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本发明公开了一种刷片清洗机，用于清洗硅片，具有多个清洗单元，每个清洗单元包含：多个片刷；多个喷嘴，包含正面高压水洗喷嘴、正面喷淋水洗喷嘴、背面喷淋水洗喷嘴、边缘高压水洗喷嘴；正面刷背面刷分别位于硅片两面且与硅片接触，对硅片表面产生清洁作用；...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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