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一种半导体结构的形成方法，包括：提供衬底，包括用于形成核心存储电路的第一区域；依次在衬底上形成栅电极膜和初始硬掩膜；采用第一刻蚀工艺，刻蚀初始硬掩膜，在第一区域形成贯穿初始硬掩膜的第一开口；在第一开口中填充牺牲层；采用第二刻蚀工艺，刻蚀牺牲...
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