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本实用新型提供了一种CMP工艺抛光垫的修整装置，其包括：修整器和修整器边缘的高压水枪或高压气枪，所述修整器包括转轮，转轮表面有磨粒排布，转轮安装在能提供动力的外壳上，在外壳边缘或者外侧设有空洞、喷嘴或缝隙，或者在磨粒跟磨粒之间空隙中设置空洞...
该专利属于苏州新美光纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州新美光纳米科技有限公司授权不得商用。

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