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本发明公开了一种基于Cu2-xS自掺杂半导体光热材料的隐形指纹成像方法。本发明利用烯丙基硫醇的聚合作用，对具有较高光热转换效率的Cu2-xS自掺杂半导体材料的表面进行修饰，使其具有两亲性，能够选择性地吸附于隐形指纹上，并借助于近红外光辐射和...
该专利属于北京化工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京化工大学授权不得商用。

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