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本发明提供一种TFT基板的制作方法，通过一道半透光罩将有源层、栅极绝缘层、栅极的图形光刻出来，使得整个TFT基板的制程采用3道光罩即可完成，与现有技术相比，可节约一道光罩，工艺简单，且制造成本低。...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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