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气体阻隔性膜和电子设备制造技术
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文档序号:14950759
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本发明提供一种具有高的气体阻隔性和优异的气体阻隔性的面内均匀性的气体阻隔性膜。此外,本发明提供一种在高温高湿环境下的耐久性优异的电子设备。一种气体阻隔性膜,其在基材上依次具有锚固涂层、与上述锚固涂层接触且通过真空成膜法形成的气体阻隔层,上述...
该专利属于柯尼卡美能达株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过柯尼卡美能达株式会社授权不得商用。
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