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一种粉末颗粒振动式磁控溅射镀膜法，采用物理气相沉积(PVD)的方法，在振动的粉末颗粒表面磁控溅射一层金属或合金薄膜。主要步骤如下：1)将装有粉末颗粒的进料罐与磁控溅射设备进料口密封连接，将金属靶材安装在靶位上；2)抽真空至4×10‑3Pa；...
该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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